一、產(chǎn)品名稱(chēng)：創(chuàng)新型納米膠體磨，創(chuàng)新納米膠體磨，改進(jìn)型納米膠體磨，改良型納米膠體磨，研磨分散膠體磨，納米研磨分散機(jī)

二、創(chuàng)新型納米膠體磨簡(jiǎn)介

上海SGN技術(shù)，*創(chuàng)意，融化理念。將SGN納米高剪切膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改進(jìn)，在原來(lái)GM2000系列的基礎(chǔ)上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改進(jìn)成兩級(jí)模塊，加入了一級(jí)分散盤(pán)（均質(zhì)盤(pán)、乳化盤(pán)）。從而形成改進(jìn)型的納米膠體磨，先研磨后分散（均質(zhì)、乳化），將物料的處理一步到底的完成，我們將這種創(chuàng)新的膠體磨也稱(chēng)為“研磨分散機(jī)”、“研磨均質(zhì)機(jī)”、“研磨乳化機(jī)”。

，這種*的設(shè)計(jì)，放眼世界，獨(dú)上海SGN一家，更多關(guān)于創(chuàng)新型膠體磨的信息，請(qǐng)接洽上思峻，劉！                         
           


三、結(jié)構(gòu)

創(chuàng)新型膠體磨，研磨分散機(jī)，簡(jiǎn)單的來(lái)講就是將高剪切膠體磨和高剪切分散機(jī)，合二為一了。同時(shí)具備膠體磨和分散機(jī)的功能，并且減少了膠體磨和分散機(jī)串連后的，時(shí)間差因素。從成本上來(lái)講，原先兩臺(tái)設(shè)備的價(jià)格，現(xiàn)在用一臺(tái)研磨分散機(jī)就可以完成，性價(jià)比更高。

GMD2000系列創(chuàng)新型膠體磨，研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機(jī)是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

GMD2000系列創(chuàng)新型膠體磨，研磨分散設(shè)備是SGN（上海）公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝，我們將三級(jí)變更為一級(jí)，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過(guò)乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）

  
         
四、GMD2000系列納米創(chuàng)新型膠體磨特點(diǎn)：

①   線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨

②   定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。

③   定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

④   在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

⑤   高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

，研磨分散機(jī)，研磨均質(zhì)機(jī)，研磨乳化機(jī)，全新的設(shè)計(jì)理念，超高設(shè)備剪切力，以及穩(wěn)定的設(shè)備運(yùn)行，SGN為廣大企業(yè)提供優(yōu)質(zhì)的設(shè)備服務(wù)！